IMPROVED EFFICIENCY OF MIS-SILICON SOLAR-CELLS BY HF TREATMENT OF OXIDE LAYER

被引:20
作者
KIPPERMAN, AHM [1 ]
OMAR, MH [1 ]
机构
[1] EINDHOVEN UNIV TECHNOL,DEPT APPL PHYS,MAT SCI GRP,EINDHOVEN,NETHERLANDS
关键词
D O I
10.1063/1.88588
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:2
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