TEMPERATURE DISTRIBUTION OF SILICON-ON-INSULATOR SYSTEMS DURING RECRYSTALLIZATION PROCESSING

被引：4

作者：

MIAOULIS, IN ^{[1
]}

MIKIC, BB ^{[1
]}

机构：

[1] MIT,DEPT MECH ENGN,CAMBRIDGE,MA 02139

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.336481

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1663 / 1666

页数：4

共 4 条

COLINGE, JP ;

DEMOULIN, E ;

BENSAHEL, D ;

AUVERT, G .

GEIS, MW ;

SMITH, HI ;

SILVERSMITH, DJ ;

MOUNTAIN, RW ;

THOMPSON, CV .

[3]

MIAOULIS I, 1984, THESIS MIT

MIAOULIS, IN ;

MIKIC, BB .