INCORPORATION OF RAPID ISOTHERMAL PROCESSOR IN A VACUUM-SYSTEM

被引：2

作者：

RADPOUR, F

ANANDAKUGAN, S

CHOU, P

SINGH, R

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584060

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：95 / 96

页数：2

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共 3 条

SINGH, R ;

RADPOUR, F ;

CHOU, P ;

NGUYEN, Q ;

JOSHI, SP ;

ULLAL, HS ;

MATSON, RJ ;

ASHER, S .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 1987, 5 (04) :1819-1823

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SINGH R, 1987, J APPL PHYS, V63, P3405

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