PREFERENTIAL IONIZATION IN REACTIVE SPUTTERING DISCHARGES

被引：12

作者：

HECQ, M

HECQ, A

FONTIGNIES, M

机构：

来源：

THIN SOLID FILMS | 1984年 / 115卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(84)90186-X

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：L45 / L48

页数：4

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共 13 条

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