ENHANCED DIFFUSION IN BORON IMPLANTED SILICON

被引：9

作者：

HOPKINS, LC

SEIDEL, TE

WILLIAMS, JS

BEAN, JC

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2114279

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：2035 / 2036

页数：2

共 8 条

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