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LOW TEMPERATURE EFFECTS IN SI FETS
被引:25
作者
:
HOWARD, WE
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HOWARD, WE
FANG, FF
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FANG, FF
机构
:
来源
:
SOLID-STATE ELECTRONICS
|
1965年
/ 8卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0038-1101(65)90011-0
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
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页码:82 / &
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共 5 条
[1]
EFFECT OF LOW TEMPERATURE ANNEALING ON SURFACE CONDUCTIVITY OF SI IN SI-SIO2-AL SYSTEM
CHEROFF, G
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HOCHBERG, F
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1964,
8
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-
&
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[J].
JOURNAL OF PHYSICS AND CHEMISTRY OF SOLIDS,
1959,
8
: 109
-
111
[5]
SCHRIEFFER JR, 1956, C PHYS SEMICONDUCTOR
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共 5 条
[1]
EFFECT OF LOW TEMPERATURE ANNEALING ON SURFACE CONDUCTIVITY OF SI IN SI-SIO2-AL SYSTEM
CHEROFF, G
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CHEROFF, G
FANG, F
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HOCHBERG, F
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HOCHBERG, F
[J].
IBM JOURNAL OF RESEARCH AND DEVELOPMENT,
1964,
8
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-
&
[2]
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FOWLER, AB
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1964,
8
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&
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HANDLER P, 1964, INTERNATIONAL C PHYS
[4]
HALL MOBILITY OF A CLEANED GERMANIUM SURFACE
MISSMAN, R
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MISSMAN, R
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HANDLER, P
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JOURNAL OF PHYSICS AND CHEMISTRY OF SOLIDS,
1959,
8
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-
111
[5]
SCHRIEFFER JR, 1956, C PHYS SEMICONDUCTOR
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