THE PHASE-SHIFTING MASK .2. IMAGING SIMULATIONS AND SUBMICROMETER RESIST EXPOSURES

被引：61

作者：

LEVENSON, MD ^{[1
]}

GOODMAN, DS ^{[1
]}

LINDSEY, S ^{[1
]}

BAYER, PW ^{[1
]}

SANTINI, HAE ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/T-ED.1984.21603

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：753 / 763

页数：11

共 5 条

[1]

BORN M, 1975, PRINCIPLES OPTICS, pCH10

[2] ON THE DIFFRACTION THEORY OF OPTICAL IMAGES [J].

HOPKINS, HH .

PROCEEDINGS OF THE ROYAL SOCIETY OF LONDON SERIES A-MATHEMATICAL AND PHYSICAL SCIENCES, 1953, 217 (1130) :408-432

LEVENSON, MD ;

VISWANATHAN, NS ;

SIMPSON, RA .

[4]

LIN BJ, 1979, SPIE, V174, P114

[5]

Rayleigh L., 1896, PHILOS MAG, V5, P167