DEPOSITION OF MAGNETITE FILMS BY REACTIVE SPUTTERING OF IRON

被引:19
作者
HELLER, J [1 ]
机构
[1] IBM DEUTSCHLAND GMBH, GERMAN MFG TECHNOL CTR, SINDELFINGEN, FED REP GER
关键词
D O I
10.1109/TMAG.1976.1059043
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:396 / 400
页数:5
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