RESPONSE OF THERMAL FILAMENTS IN VO2 TO LASER-PRODUCED THERMAL PERTURBATIONS

被引：7

作者：

JELKS, EC ^{[1
]}

WALSER, RM ^{[1
]}

BENE, RW ^{[1
]}

NEAL, WH ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV TEXAS,ELECTR RES CTR,AUSTIN,TX 78712

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.88176

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：355 / 356

页数：2

共 5 条

[1]

BERGLUND CN, 1969, IEEE T ELECTRON DEVI, VED16, P432

[2]

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[3] REACTIVELY SPUTTERED VANADIUM DIOXIDE THIN FILMS [J].

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