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MORPHOLOGICAL FLUCTUATION AND ELECTRICAL-PROPERTIES OF SPUTTERED HYDROGENATED SILICON
被引:15
作者
:
SHIRAFUJI, J
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SHIRAFUJI, J
MATSUI, H
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MATSUI, H
NARUKAWA, A
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NARUKAWA, A
INUISHI, Y
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INUISHI, Y
机构
:
来源
:
APPLIED PHYSICS LETTERS
|
1982年
/ 41卷
/ 06期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.93580
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
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页码:535 / 537
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[11]
PROPERTIES OF POLYCRYSTALLINE SILICON PREPARED BY CHEMICAL-TRANSPORT IN HYDROGEN PLASMA AT TEMPERATURES BETWEEN 80-DEGREES-C AND 400-DEGREES-C
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WEBB, AP
[J].
JOURNAL OF PHYSICS C-SOLID STATE PHYSICS,
1981,
14
(03):
: 295
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PROPERTIES OF POLYCRYSTALLINE SILICON PREPARED BY CHEMICAL-TRANSPORT IN HYDROGEN PLASMA AT TEMPERATURES BETWEEN 80-DEGREES-C AND 400-DEGREES-C
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