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A PH3 CRACKING FURNACE FOR MOLECULAR-BEAM EPITAXY
被引:34
作者
:
CHOW, R
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0
CHOW, R
CHAI, YG
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CHAI, YG
机构
:
来源
:
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS
|
1983年
/ 1卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1116/1.572309
中图分类号
:
TB3 [工程材料学];
学科分类号
:
0805 ;
080502 ;
摘要
:
引用
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页码:49 / 54
页数:6
相关论文
共 12 条
[11]
OPERATIONAL ASPECTS OF A GALLIUM-PHOSPHIDE SOURCE OF P2 VAPOR IN MOLECULAR-BEAM EPITAXY
WRIGHT, SL
论文数:
0
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0
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0
WRIGHT, SL
KROEMER, H
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
KROEMER, H
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1982,
20
(02):
: 143
-
148
[12]
1971, MELLORS COMPREHEN S3, V8, P350
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共 12 条
[11]
OPERATIONAL ASPECTS OF A GALLIUM-PHOSPHIDE SOURCE OF P2 VAPOR IN MOLECULAR-BEAM EPITAXY
WRIGHT, SL
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0
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WRIGHT, SL
KROEMER, H
论文数:
0
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KROEMER, H
[J].
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY,
1982,
20
(02):
: 143
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148
[12]
1971, MELLORS COMPREHEN S3, V8, P350
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