SIO2-FILMS DEPOSITED ON SI BY AN IONIZED CLUSTER BEAM

被引：16

作者：

MINOWA, Y ^{[1
]}

YAMANISHI, K ^{[1
]}

TSUKAMOTO, K ^{[1
]}

机构：

[1] MITSUBISHI ELECT CORP,LSI RES & DEV LAB,ITAMI,HYOGO 664,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1983年 / 1卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1116/1.582654

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：1148 / 1151

页数：4

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