TOPOGRAPHY OF ETCHED RHOMBOHEDRAL FACES OF QUARTZ CRYSTALS - EVIDENCE FOR ORIENTATION EFFECTS

被引：12

作者：

CASTAGLIOLA, M

TELLIER, CR

VATERKOWSKI, JL

机构：

来源：

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE | 1986年 / 21卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1007/BF02403002

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：3551 / 3560

页数：10

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[31] AN ETCH FOR DELINEATION OF DEFECTS IN SILICON [J].

YANG, KH .

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1984, 131 (05) :1140-1145

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