NEW MICROWAVE ION-SOURCE FOR HIGH-ENERGY ION IMPLANTER

被引：14

作者：

AMEMIYA, K ^{[1
]}

TOKIGUCHI, K ^{[1
]}

KOIKE, H ^{[1
]}

SEKI, T ^{[1
]}

SAKUDO, N ^{[1
]}

机构：

[1] HITACHI LTD,NAKA WORKS,KATUTA,IBARAKI 312,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0168-583X(89)90140-7

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

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页数：3