TIN-DOPED IN2O3 FILMS DEPOSITED BY RF-SPUTTERING

被引：15

作者：

FUJINAKA, M ^{[1
]}

BEREZIN, AA ^{[1
]}

机构：

[1] MCMASTER UNIV,DEPT ENGN PHYS,HAMILTON L8S 4M1,ONTARIO,CANADA

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(83)90488-1

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：7 / 10

页数：4

共 3 条

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