OPTIMIZATION OF ALIGNMENT MARKS AND THEIR ELECTRON SIGNALS IN A SEMICONDUCTOR PROCESS

被引：8

作者：

FRIEDRICH, H ^{[1
]}

ZEITLER, HU ^{[1
]}

BIERHENKE, H ^{[1
]}

机构：

[1] SIEMENS AG,RES LABS,D-8000 MUNICH 80,FED REP GER

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1977年 / 124卷 / 04期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2133364

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：627 / 629

页数：3

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[1] ELECTRON DETECTION SYSTEM FOR MICROFABRICATION REGISTRATION [J].

CHANG, THP .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1973, 10 (06) :1129-1129

[2]

DENNARD RH, 1972, DESIGN MICRO MOS SWI

[3]

FAUST JW, 1960, SURFACE CHEMISTRY ME

[4] COMPOSITION AND DETECTION OF ALIGNMENT MARKS FOR ELECTRON-BEAM LITHOGRAPHY [J].

WOLF, ED ;

COANE, PJ ;

OZDEMIR, FS .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1266-1270