FAST AND NONDESTRUCTIVE METHOD OF C(V) PROFILING OF THIN SEMICONDUCTOR LAYERS ON AN INSULATING SUBSTRATE

被引:13
作者
BINET, M
机构
[1] LAB ELECTR,3 AVE DESCARTES,94450 LIMEIL BREVANNES,FRANCE
[2] LAB PHYS APPL,94450 LIMEIL BREVANNES,FRANCE
关键词
D O I
10.1049/el:19750444
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页数:2
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