METALORGANIC MOLECULAR-BEAM EPITAXY OF GAMMA-AL2O3 INSULATOR FILMS ON SI WITH LASER IRRADIATION

被引：9

作者：

SAWADA, K ^{[1
]}

ISHIDA, M ^{[1
]}

NAKAMURA, T ^{[1
]}

SUZAKI, T ^{[1
]}

机构：

[1] TOYOKO KAGAKU CO LTD,NAKAHARA KU,KAWASAKI 211,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0022-0248(89)90451-X

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：494 / 499

页数：6

共 23 条

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