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GROWTH OF DISLOCATION-FREE GAAS CRYSTALS BY NITROGEN DOPING
被引:16
作者
:
JACOB, G
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
JACOB, G
机构
:
来源
:
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH
|
1982年
/ 59卷
/ 03期
关键词
:
D O I
:
10.1016/0022-0248(82)90394-3
中图分类号
:
O7 [晶体学];
学科分类号
:
0702 ;
070205 ;
0703 ;
080501 ;
摘要
:
引用
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页码:669 / 671
页数:3
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[1]
ETCHING OF DISLOCATIONS ON LOW-INDEX FACES OF GAAS
ABRAHAMS, MS
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ABRAHAMS, MS
BUIOCCHI, CJ
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BUIOCCHI, CJ
[J].
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS,
1965,
36
(09)
: 2855
-
&
[2]
DUSEAUX M, UNPUB APPL PHYS LETT
[3]
JACOB G, 1982, J CRYST GROWTH, V57, P493
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1978,
49
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[5]
SUZUKI T, 1978, SUMITOMO ELEC TECH R, V18, P105
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[1]
ETCHING OF DISLOCATIONS ON LOW-INDEX FACES OF GAAS
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1965,
36
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: 2855
-
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1978,
49
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-
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