TRANSPARENCY OF THIN METAL-FILMS ON SEMICONDUCTOR SUBSTRATES

被引:21
作者
HOVEL, HJ [1 ]
机构
[1] IBM CORP, THOMAS J WATSON RES CTR, YORKTOWN HTS, NY 10598 USA
关键词
D O I
10.1063/1.322504
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:4968 / 4970
页数:3
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