共 3 条
- [2] REFRACTORY SILICIDES FOR INTEGRATED-CIRCUITS[J]. JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1980, 17 (04): : 775 - 792MURARKA, SP
- [3] Tu K. N., 1978, Thin films. Interdiffusion and reactions, P359
PHOSPHORUS OUT DIFFUSION FROM DOUBLE-LAYERED TANTALUM SILICIDE POLYCRYSTALLINE SILICON STRUCTURE
被引：22
作者：
MAA, JS
MAGEE, CW
ONEILL, JJ
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
|
1983年
/
1卷
/
01期
关键词：
D O I：
10.1116/1.582535
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
引用
收藏
页码：1 / 5
页数：5
相关论文