REALISATION DE DIODES N-I-P AU GERMANIUM APPLICATION A LA SPECTROMETRIE GAMMA

被引：15

作者：

STAB, L

HENCK, R

SIFFERT, P

COCHE, A

机构：

来源：

NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS | 1965年 / 35卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0029-554X(65)90017-0

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：113 / &

共 11 条

[1]

AJZENBERGSELOVE F, 1959, NUCL PHYS, V11, P206

[2]

DEARNALEY G, 1963, SEMICONDUCTOR COUNTE, P92

EWAN, GT ;

TAVENDALE, AJ .

FRECK, DV ;

WAKEFIELD, J .

[5]

LLACER J, 1964, 8442 BROOKH NAT LAB

[6]

MAYER JW, 1961, P IAEA C NUCL ELECTR, V1, P567

[7]

SAKAI E, 1963, P IAEA C NUCL ELECTR, P205

[8] ELECTROLESS NICKEL PLATING FOR MAKING OHMIC CONTACTS TO SILICON [J].

SULLIVAN, MV ;

EIGLER, JH .

[9]

TAVENDALE AJ, 1964, IEEE T NUCL SCI, VNS11, P199

[10]

TAVENDALE AJ, 1963, P INT S NUCLEAR ELEC, P235