SPIN-COATED AS2S3 - A BARRIER LAYER FOR HIGH-RESOLUTION TRILAYER RESIST SYSTEM

被引:11
作者
SINGH, B [1 ]
CHERN, GC [1 ]
LAUKS, I [1 ]
机构
[1] UNIV PENN,MOORE SCH ELECT ENGN,CTR CHEM ELECTR,DEPT ELECT ENGN,PHILADELPHIA,PA 19104
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 01期
关键词
D O I
10.1116/1.583256
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:327 / 330
页数:4
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共 12 条
[11]  
SINGH B, 1984, APPL PHYS LETT, V45, P75
[12]   MULTILAYER RESIST TECHNIQUE FOR SUB-MICRON OPTICAL LITHOGRAPHY [J].
TING, CH ;
LIAUW, KL .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 1983, 1 (04) :1225-1234