SI DIFFUSION IN AL DURING IMPLANTATION AS PROBED BY (P,GAMMA) RESONANCE BROADENING

被引：3

作者：

ANTTILA, A ^{[1
]}

HIRVONEN, J ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV HELSINKI,DEPT PHYS,HELSINKI,FINLAND

来源：

THIN SOLID FILMS | 1976年 / 33卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(76)90089-4

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：L13 / L14

页数：2

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