PLASMA FOCUS DEVICES

被引：54

作者：

DECKER, G

WIENECKE, R

机构：

[1] UNIV STUTTGART,INST PLASMA FORSCH,STUTTGART,FED REP GER

[2] MAX PLANCK INST PLASMA PHYS,GARCHING,FED REP GER

来源：

PHYSICA B & C | 1976年 / 82卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0378-4363(76)90274-6

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：155 / 164

页数：10

共 47 条

[41]

SCHMIDT H, 1975, APPL OPTICS, V11, P11

SCHONBACH, KH ;

MICHEL, L ;

FISCHER, H .

[43]

TANIMOTO M, 1974, DENSE PLASMA FOCUS H

[44] NUMERICAL PARAMETER STUDIES FOR DENSE-PLASMA FOCUS [J].

TRUNK, M .

[45]

TRUNK M, 1973, IPF732 U STUTT I PLA

[46]

1974, WASH1290 US AEC

[47]

1973, 6TH EUR C CONTR FUS, P359