USE OF NEURAL NETWORKS IN MODELING SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESSES - AN EXAMPLE FOR PLASMA ETCH MODELING

被引：46

作者：

RIETMAN, EA ^{[1
]}

LORY, ER ^{[1
]}

机构：

[1] AT&T BELL LABS,ENGN RES CTR,PRINCETON,NJ

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/66.267644

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：343 / 347

页数：5

共 19 条

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