DEVELOPMENTS AND TRENDS IN SPUTTERING DEPOSITION TECHNIQUES

被引：6

作者：

BESSOT, JJ ^{[1
]}

机构：

[1] CIT ALCATEL,41 RUE PERIER,92120 MONTROUGE,FRANCE

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(76)90546-0

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：19 / 25

页数：7

共 9 条

[1]

GORINAS G, 1974, Patent No. 7418999

[2]

HANACK JJ, 1975, VIDE, V175, P16

[3]

HENNINGS J, 1974, JPN J APPL PHYS 1 S2

[4]

HOLLAND L, 1966, 13 NAT VAC S SAN FRA, P29

KAY, E .

[6]

LAVILLESAINTMAR.B, 1973, VIDE S, V165, P1

MAISSEL, LI ;

JONES, RE ;

STANDLEY, CL .

[8]

MAURICE L, 1974, JPN J APPL PHYS 1 S2

[9] BACKSTREAMING IN DIFFUSION PUMP SYSTEMS [J].

RETTINGHAUS, G ;

HUBER, WK .