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THERMAL-STABILITY OF PURE A-SI FILMS PREPARED BY RF-BIAS SPUTTERING
被引:8
作者
:
SUZUKI, M
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0
SUZUKI, M
SUZUKI, M
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SUZUKI, M
KANADA, M
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KANADA, M
KAKIMOTO, Y
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KAKIMOTO, Y
机构
:
来源
:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS
|
1982年
/ 21卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1143/JJAP.21.L89
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:L89 / L91
页数:3
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共 12 条
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SUZUKI M, 1981, 9TH P INT C AM LIQ S
[12]
UEDA S, 1982, 9TH P INT C AM LIQ S
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