MASKING OF DEPOSITED THIN-FILMS BY MEANS OF AN ALUMINUM-PHOTORESIST COMPOSITE

被引：27

作者：

GREBE, K ^{[1
]}

AMES, I ^{[1
]}

GINZBERG, A ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1974年 / 11卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1318654

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：458 / 460

页数：3

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