CONTRAST AND SENSITIVITY ENHANCEMENT OF RESISTS FOR HIGH-RESOLUTION LITHOGRAPHY

被引：4

作者：

CHIONG, KG ^{[1
]}

PETRILLO, K ^{[1
]}

HOHN, FJ ^{[1
]}

WILSON, AD ^{[1
]}

MOREAU, WM ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,DIV GEN TECHNOL,E FISHKILL,NY 12533

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.584089

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：2238 / 2244

页数：7

共 20 条

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