THE IMPACT OF SURFACE-ANALYSIS TECHNOLOGY ON THE DEVELOPMENT OF SEMICONDUCTOR WAFER CLEANING PROCESSES

被引：27

作者：

PHILLIPS, BF ^{[1
]}

BURKMAN, DC ^{[1
]}

SCHMIDT, WR ^{[1
]}

PETERSON, CA ^{[1
]}

机构：

[1] FSI CORP,CHASKA,MN 55318

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1983年 / 1卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.572200

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：646 / 649

页数：4