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HIGH-TEMPERATURE OPERATION OF SILICON-CARBIDE MOSFET
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作者
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KONDO, Y
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YOSHIDA, S
机构
:
来源
:
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS
|
1987年
/ 26卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1143/JJAP.26.310
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
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相关论文
共 4 条
[1]
BEASOM JD, 1981, 1981 INT EL DEV M NE, P350
[2]
EXPERIMENTAL 3C-SIC MOSFET
KONDO, Y
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YOSHIDA, S
[J].
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS,
1986,
7
(07)
: 404
-
406
[3]
NISHINO S, 1984, 16TH INT C SOL STAT, P8
[4]
HIGH-TEMPERATURE ELECTRICAL-PROPERTIES OF 3C-SIC EPITAXIAL LAYERS GROWN BY CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
SASAKI, K
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GONDA, S
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1984,
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共 4 条
[1]
BEASOM JD, 1981, 1981 INT EL DEV M NE, P350
[2]
EXPERIMENTAL 3C-SIC MOSFET
KONDO, Y
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YOSHIDA, S
[J].
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS,
1986,
7
(07)
: 404
-
406
[3]
NISHINO S, 1984, 16TH INT C SOL STAT, P8
[4]
HIGH-TEMPERATURE ELECTRICAL-PROPERTIES OF 3C-SIC EPITAXIAL LAYERS GROWN BY CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION
SASAKI, K
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GONDA, S
[J].
APPLIED PHYSICS LETTERS,
1984,
45
(01)
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