ELLIPSOMETRY MEASUREMENTS OF POLYCRYSTALLINE SILICON FILMS

被引：22

作者：

IRENE, EA

DONG, DW

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2124148

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1347 / 1353

页数：7

共 9 条

[1]

Azzam RMA, 1977, ELLIPSOMETRY POLARIZ

DELLOCA, CJ .

[3]

Grove A S, 1967, PHYS TECHNOLOGY SEMI

IRENE, EA ;

TIERNEY, E ;

DONG, DW .

[5]

IRENE EA, 1980, MICROSTRUCTURAL SCI, V8, P91

[6] THERMAL OXIDATION OF POLYCRYSTALLINE SILICON FILMS [J].

KAMINS, TI ;

MACKENNA, EL .

METALLURGICAL TRANSACTIONS, 1971, 2 (08) :2292-&

[7] STRUCTURE OF CHEMICALLY DEPOSITED POLYCRYSTALLINE-SILICON FILMS [J].

KAMINS, TI ;

CASS, TR .

[8]

MCCRACKIN FL, 1969, NBS479 TECHN NOT

VANDERME.YJ ;

HIEN, NC .