INTENSE-PULSED PLASMA X-RAY SOURCES FOR LITHOGRAPHY - MASK DAMAGE EFFECTS

被引:9
作者
HYMAN, HA
BALLANTYNE, A
FRIEDMAN, HW
REILLY, DA
SOUTHWORTH, RC
DYM, CL
机构
[1] AVCO SYST DIV,WILMINGTON,MA 01887
[2] UNIV MASSACHUSETTS,DEPT CIVIL ENGN,AMHERST,MA 01002
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1982年 / 21卷 / 04期
关键词
D O I
10.1116/1.571853
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1012 / 1016
页数:5
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