INFLUENCE OF FLOW-RATE AND PRESSURE ON EXCITATION CONDITIONS IN LOW-PRESSURE MICROWAVE INDUCED PLASMAS

被引:30
作者
BRASSEM, P [1 ]
MAESSEN, FJMJ [1 ]
机构
[1] UNIV AMSTERDAM, LAB ANAL CHEM, NIEUWE ACHTERGRACHT 166, AMSTERDAM, NETHERLANDS
关键词
D O I
10.1016/0584-8547(75)80049-8
中图分类号
O433 [光谱学];
学科分类号
0703 ; 070302 ;
摘要
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页数:10
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