THE PROPERTIES OF CR-SI-O THIN-FILM RESISTORS BY DC CONVENTIONAL SPUTTERING

被引：6

作者：

FURUTA, K

MIYAGAWA, S

KAMEI, T

ANDO, H

机构：

[1] HITACHI LTD,PROD ENGN RES LAB,YOKOHAMA 244,JAPAN

[2] HITACHI LTD,RESEARCH LAB,IBARAGI 317,JAPAN

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1983年 / 1卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.572264

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

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页数：2