NEW SPUTTER CLEANING SYSTEM FOR METALLIC SUBSTRATES

被引：19

作者：

SCHILLER, S ^{[1
]}

HEISIG, U ^{[1
]}

STEINFELDER, K ^{[1
]}

机构：

[1] FORSCH INST MANFRED VON ARDENNE,DDR-8051 DRESDEN,GER DEM REP

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(76)90103-6

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：331 / 339

页数：9

共 12 条

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