DIFFUSION OF SILICON IN GALLIUM-ARSENIDE USING RAPID THERMAL-PROCESSING - EXPERIMENT AND MODEL

被引：164

作者：

GREINER, ME

GIBBONS, JF

机构：

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1984年 / 44卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1063/1.94904

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：750 / 752

页数：3

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