PLASMA SPECTROSCOPY FOR POLYMER DEPOSITION

被引：3

作者：

CECCAROLI, B ^{[1
]}

RICARD, A ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV PARIS 11,CNRS,PHYS GAZ & PLASMAS LAB,F-91405 ORSAY,FRANCE

来源：

REVUE DE PHYSIQUE APPLIQUEE | 1986年 / 21卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1051/rphysap:01986002103019700

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：197 / 199

页数：3

共 3 条

[1]

KOHLER K, 1985, J APPL PHYS, V57, P59, DOI 10.1063/1.335396

PANTEL, R ;

RICARD, A ;

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BEITRAGE AUS DER PLASMAPHYSIK-CONTRIBUTIONS TO PLASMA PHYSICS, 1983, 23 (06) :561-580

SMOLINSKY, G ;

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JOURNAL OF MACROMOLECULAR SCIENCE-CHEMISTRY, 1976, A 10 (03) :473-482