CONFORMAL STEP COVERAGE OF LASER DEPOSITED SILICON DIOXIDE FILMS

被引：10

作者：

BOYER, PK

RITCHIE, WH

COLLINS, GJ

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1982年 / 129卷 / 09期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2124399

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：2155 / 2156

页数：2

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共 3 条

[1] LASER-INDUCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF SIO2 [J].

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