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RADIATION-DAMAGE OF THERMALLY OXIDIZED MOS CAPACITORS
被引:6
作者
:
KAMPF, U
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0
机构:
HAHN MEITNER INST,ELECTR DIV,POSTFACH 390128,1 BERLIN,FED REP GER
HAHN MEITNER INST,ELECTR DIV,POSTFACH 390128,1 BERLIN,FED REP GER
KAMPF, U
[
1
]
WAGEMANN, HG
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机构:
HAHN MEITNER INST,ELECTR DIV,POSTFACH 390128,1 BERLIN,FED REP GER
HAHN MEITNER INST,ELECTR DIV,POSTFACH 390128,1 BERLIN,FED REP GER
WAGEMANN, HG
[
1
]
机构
:
[1]
HAHN MEITNER INST,ELECTR DIV,POSTFACH 390128,1 BERLIN,FED REP GER
来源
:
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES
|
1976年
/ 23卷
/ 01期
关键词
:
D O I
:
10.1109/T-ED.1976.18338
中图分类号
:
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
:
0808 ;
0809 ;
摘要
:
引用
收藏
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页数:6
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WAGEMANN HG, 1974, JUN P INT C EV SPAC, P785
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CRICCHI, JR
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CRICCHI, JR
[J].
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES,
1972,
ED19
(12)
: 1280
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&
[23]
ZAININGER KH, 1966, IEEE T NUCL SCI, VNS13, P237
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