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PREPARATION AND CHARACTERIZATION OF RF SPUTTERED INDIUM TIN OXIDE-FILMS
被引:136
作者
:
SREENIVAS, K
论文数:
0
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0
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0
机构:
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
SREENIVAS, K
[
1
]
RAO, TS
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机构:
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
RAO, TS
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1
]
MANSINGH, A
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机构:
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
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MANSINGH, A
[
1
]
CHANDRA, S
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机构:
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
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CHANDRA, S
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1
]
机构
:
[1]
NATL PHYS LAB, NEW DELHI 110012, INDIA
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1985年
/ 57卷
/ 02期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.335481
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
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[41]
VOSSEN JL, 1970, J VAC SCI TECHNOL, V8, pS12
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