CRYSTALLOGRAPHIC SITE OF CO-SPUTTERED EU IN RF-SPUTTERED SNO2 FILMS

被引：4

作者：

TOHDA, T ^{[1
]}

WASA, K ^{[1
]}

HAYAKAWA, S ^{[1
]}

机构：

[1] MATSUSHITA ELECT IND CO LTD,MAT RES LABS,KADOMA,OSAKA 571,JAPAN

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1976年 / 123卷 / 11期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2132676

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：1719 / 1720

页数：2

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共 4 条

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