EXPERIMENTAL-DETERMINATION OF CURRENT PATHS OF IONS IMPLANTED INTO INSULATORS

被引:10
作者
WADA, Y [1 ]
SATO, K [1 ]
机构
[1] HITACHI LTD,CENT RES LAB,KOKUBUNJI,TOKYO,JAPAN
关键词
D O I
10.1143/JJAP.15.2289
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
收藏
页码:2289 / 2290
页数:2
相关论文
共 2 条
[1]  
THORNTON PR, 1968, SCANNING ELECTRON MI
[2]   FABRICATION OF A MINIATURE 8K-BIT MEMORY CHIP USING ELECTRON-BEAM EXPOSURE [J].
YU, HN ;
DENNARD, RH ;
CHANG, THP ;
OSBURN, CM ;
DILONARDO, V ;
LUHN, HE .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1297-1300