DOSE-DEPENDENT CESIUM ION-BEAM DAMAGE EFFECTS ON CHEMICALLY MODIFIED POLY(METHYL METHACRYLATE) FILMS USING SECONDARY ION MASS-SPECTROMETRY AND X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY

被引:23
作者
SIMKO, SJ [1 ]
GRIFFIS, DP [1 ]
MURRAY, RW [1 ]
LINTON, RW [1 ]
机构
[1] UNIV N CAROLINA,DEPT CHEM,CHAPEL HILL,NC 27514
关键词
D O I
10.1021/ac00279a035
中图分类号
O65 [分析化学];
学科分类号
070302 ; 081704 ;
摘要
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页数:6
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