INFLUENCE OF SPUTTERING DAMAGE ON CHEMICAL INTERACTIONS AT CR-SIO2 INTERFACES

被引：3

作者：

CROS, A ^{[1
]}

SCHROTT, AG ^{[1
]}

THOMPSON, RD ^{[1
]}

TU, KN ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

APPLIED PHYSICS LETTERS | 1986年 / 48卷 / 22期

关键词：

D O I：

10.1063/1.97026

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：1547 / 1549

页数：3

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共 12 条

[11]

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