PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF TITANIUM SULFIDES

被引：7

作者：

SHIMANOUCHI, R

YAMAMOTO, T

KIKKAWA, S

KOIZUMI, M

机构：

[1] OSAKA UNIV, INST SCI & IND RES, IBARAKI, OSAKA 567, JAPAN

[2] OSAKA CEMENT CO LTD, RES LAB, MINAMIOKAJIMA, OSAKA 551, JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1246/cl.1985.1323

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

引用

页码：1323 / 1326

页数：4

共 4 条

[1]

Ojha S. M., 1982, PHYS THIN FILMS, V12, P237

[2] GLOW-DISCHARGE PHENOMENA IN PLASMA ETCHING AND PLASMA DEPOSITION [J].

VOSSEN, JL .

[3] FORMATION OF STOICHIOMETRIC TITANIUM DISULFIDE [J].

WHITTINGHAM, MS ;

PANELLA, JA .

WHITTINGHAM, MS .