A NEGATIVE RESISTANCE IN A MOS STRUCTURE

被引：3

作者：

KUWANO, H

ARIYOSHI, H

NIIMI, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1965年 / 4卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.4.383

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：383 / &

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