AN ALIGNMENT SYSTEM FOR SYNCHROTRON RADIATION X-RAY-LITHOGRAPHY

被引：21

作者：

ITOH, J

KANAYAMA, T

ATODA, N

HOH, K

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.583964

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：409 / 412

页数：4

共 5 条

[1] HOH K, 1983, JPN J APPL PHYS S, V22, P661
[2] OPTICAL-HETERODYNE DETECTION OF MASK-TO-WAFER DISPLACEMENT FOR FINE ALIGNMENT
ITOH, J
KANAYAMA, T
[J]. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS, 1986, 25 (08): : L684 - L686
[3] Itoh J., 1987, Proceedings of the SPIE - The International Society for Optical Engineering, V773, P7, DOI 10.1117/12.940347
[4] OHTA T, 1987, 18TH P S ION IMPL SU, P137
[5] A 600-MEV ETL ELECTRON STORAGE RING
TOMIMASU, T
NOGUCHI, T
SUGIYAMA, S
YAMAZAKI, T
MIKADO, T
CHIWAKI, M
[J]. IEEE TRANSACTIONS ON NUCLEAR SCIENCE, 1983, 30 (04) : 3133 - 3135