NOVEL INORGANIC PHOTORESIST UTILIZING AG PHOTODOPING IN SE-GE GLASS-FILMS

被引：115

作者：

YOSHIKAWA, A ^{[1
]}

OCHI, O ^{[1
]}

NAGAI, H ^{[1
]}

MIZUSHIMA, Y ^{[1
]}

机构：

[1] NIPPON TELEG & TEL PUBL CORP,MUSASHINO ELECT COMMUN LAB,MUSASHINO,TOKYO,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.88899

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：677 / 679

页数：3